摘要:為探究表面張力對液滴沖擊過冷水平壁面鋪展動力學行為的影響，搭建了可視化實驗系統(tǒng)，探究了乙醇液滴沖擊過冷水平壁面的鋪展動力學行為，分析了水平壁面過冷度對低表面張力液滴沖擊鋪展動力學行為的影響。實驗中，采用親水硅水平壁面及較小的沖擊速度以觀測乙醇液滴沖擊過冷水平壁面的鋪展動力學行為。此外，還比較了不同的最大鋪展因子和最大鋪展時間的典型模型對乙醇液滴沖擊過冷水平壁面鋪展動力學因子的適用性。結(jié)果表明:乙醇液滴沖擊過冷親水水平壁面的鋪展動力學行為分為飛濺、鋪展、穩(wěn)定3個階段;最大鋪展時間隨水平壁面過冷度的增大而減小;水平壁面過冷度對最大鋪展因子的影響是非單調(diào)的，在水平壁面過冷度較低時，最大內(nèi)部鋪展因子減小起主要作用，在水平壁面過冷度較高時，由于瑞利-泰勒不穩(wěn)定性的增強，無量綱手指狀突起增大起主要作用，二者共同作用造成了非單調(diào)變化;現(xiàn)有模型對于最大鋪展時間的預測效果較好，相對平均偏差為6.05%，而對最大鋪展因子的預測效果較差。

在日常生活與工業(yè)生產(chǎn)中，液滴沖擊固體水平壁面這一物理過程廣泛存在。例如，拍打在荷葉水平壁面于中心聚集的水滴，下雨天從高空沖擊在雨傘上的雨滴飛濺，內(nèi)燃機中未燃盡的油滴沖擊燃燒室壁面，航空發(fā)動機內(nèi)部小水滴沖擊葉片造成的侵蝕等。因此，深入探究液滴沖擊固體水平壁面的鋪展特性、飛濺特性和鋪展時間，可以對液滴沖擊固體水平壁面這一物理過程制定控制策略，這對我們的日常生活及工業(yè)生產(chǎn)具有重要意義。

迄今為止，對于液滴沖擊水平壁面的動力學行為，已有眾多學者針對液滴物性進行了一系列研究。

Kulkarni等通過在液體中增加活性劑，改變表面張力，確定了尿素液滴沖擊水平壁面的4種模式，即沉積、熱霧化、回彈和破碎。Lin等利用修正的毛細慣性時間，考慮液體黏度和水平壁面潤濕性對液滴鋪展的影響，得到了描述最大鋪展時間的修正表達式。Zhao等研究了黏性液滴對超重力水平壁面的影響，表明最大鋪展因子隨著韋伯數(shù)或雷諾數(shù)的增加而增加，但隨著液體黏度的增加而減小。

不僅如此，也有眾多學者展開了過冷水平壁面的液滴沖擊動力學研究。Ding等利用高速攝像機，并采用液滴鋪展因子、無量綱高度、特征時間、反彈能量和二次液滴質(zhì)量分數(shù)來反映動力學行。

Qian等對冷彈性超疏水膜進行了液滴沖擊實驗，研究了水平壁面硬度和沖擊速度對液滴沖擊過程的影響，與彈性疏水膜相比，彈性超疏水膜具有更強的防冰性能。Castillo等通過冷凍液滴和鄰近液滴之間的熱量和質(zhì)量交換來研究液滴之間的相互作用，在冷凍液滴的最終形狀中觀察到不對稱性。

Liu等利用流體體積(VOF)法和焓-孔隙度技術建立了一個數(shù)值模型，并通過模擬和實驗比較了液滴輪廓和鋪展面積因子。Zhang等利用VOF多相模型和凝固/熔化相變模型，建立了一個同時考慮過冷度對物理性質(zhì)的影響和動態(tài)接觸角對接觸線運動的影響的數(shù)值模型來模擬液滴的沖擊-凍結(jié)行為。

盡管如此，目前針對低表面張力液滴沖擊過冷水平壁面的研究仍有所欠缺。液滴在過冷表面上的沖擊和應用在生活中也十分常見，例如噴霧凍結(jié)、高空中的過冷水滴沖擊機翼導致結(jié)冰、過冷噴涂等。本文針對乙醇液滴沖擊過冷親水水平壁面這一基本物理現(xiàn)象開展實驗，針對其鋪展動力學行為進行分析與討論，旨在探究低表面張力對液滴沖擊過冷水平壁面的鋪展動力學行為的影響。這一研究有助于加深對固液接觸現(xiàn)象的理解，為更好的控制固液介面接觸提供有效指導。

1、實驗方法

1.1實驗系統(tǒng)

本文實驗系統(tǒng)如圖1所示，選擇常溫狀態(tài)下的無水乙醇(質(zhì)量分數(shù)99.9%，Tansoole)進行實驗。常溫下，該液體的密度ρ為788.69kg/m3，表面張力σ為0.023N/m，黏度μ為0.0012Pa·s，乙醇液滴的初始溫度為20℃。注射泵(Harvard，PHD-Ultra)通過推動總量程為5mL的注射器以生成乙醇液滴，當針尖處液滴的自身重力大于其表面張力時，液滴從針尖脫落。針尖的外徑為(0.23±0.02)mm，液滴的初始直徑D0為(1.75±0.08)mm，針尖底部距離過冷水平壁面的距離為335mm，液滴沖擊過冷水平壁面的初速度U0為(2.43±0.19)m/s。使用高速相機(Ph?otron，F(xiàn)astcam-MiniAX100)拍攝了液滴沖擊過冷水平壁面的過程，拍攝速度為18000幀/s，鏡頭方向與水平方向夾角為54°和0°。

液滴沖擊的水平壁面為硅片(親水光滑硅片)，乙醇液滴在該水平壁面上的靜態(tài)接觸角為8.5°。硅片緊密貼合于一半導體制冷片的冷端，半導體制冷片的熱端與循環(huán)制冷機(JULABO，CD-300F)的冷卻模塊貼合，通過這種方式，硅片的溫度Ts的范圍為0~-36℃。水平壁面溫度為硅片兩個對稱布置的K型熱電偶(Omega，精度為±0.1K)的測量值的平均值。環(huán)境溫度為(20±1)℃，相對濕度為(35±2)%。為了盡量消除過冷表面結(jié)霜對表面粗糙度的影響，每次實驗前利用無紡布沿同一方向?qū)嶒炈奖诿孢M行擦拭。為確保實驗數(shù)據(jù)的可靠性，每組實驗至少重復3次，對重復的結(jié)果進行計算，所獲得的標準方差為誤差棒。